技術特點
•采用半導體端面泵浦光纖耦合全固態激光器,性能指標包括脈沖的穩定性、脈寬、峰值功率等參數均達到良好水平。
•膜面朝上非接觸式工作臺設計不但能有效的解決玻璃運行中的平穩性,還能解決玻璃摩擦問題。
•采用全自動控制,包括自動進出料、自動識別、自動跟蹤、自動校正和自動定位。
•具有自動校正和自動定位功能。當檢測到電池片缺陷時,可立即進行重刻和補刻。
應用及市場
非晶硅薄膜太陽電池的透明導電膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背電極膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻線、切割),其它薄膜電池的膜層刻膜(金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜)。
型號規格 | SEF-G5 |
有效加工幅面 | 1.1m×1.4m(或635mm×1245mm) |
最大運行速度 | 2000mm/s |
重復定位精度 | ≤10μm |
刻線直線度 | ≤10μm/1000mm |
最小刻膜線寬 | 30~60μm |
三線外沿總寬度 | 300~500μm |
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